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全鑫精密半導體專用液靜壓立式晶圓減薄機

GTR-1215

製造商

全鑫精密工業股份有限公司

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簡介

GTR系列搭載全鑫核心技術的液靜壓主軸及轉盤,具備高剛性及高精度等優點,特別適合應用在第三代半導體或再生晶圓研磨,易操作、功能齊全、高性價比的研磨設備,採用手動裝片模式,配置自動厚度量測系統、自動補償系統,可自動研磨至目標尺寸精度。本機台配置單主軸、單工作台,可滿足4"-12"的多元化產品加工應用。

半導體專用液靜壓立式晶圓減薄機

●研磨同時監測磨削負載, 防止工件磨削過程中因壓力過大產生變形及破損。
●吸盤大小可根據客戶的需求定製, 滿足不同尺寸半導體材料的研削薄化工藝。
●晶圓厚度實時監測, 自動補正, 保證晶圓厚度的準確性。
●實現300mm矽晶圓減薄厚度<100µm、TTV<2µm, Ra 0.01µm。
●廣泛應用於高硬度材料研磨, 達到快速減薄及整平的效果。

靜壓砂輪主軸回轉精度
<0.001 mm
主軸最高轉速
0~3500 rpm
砂輪尺寸(直徑)
Ø304 mm
工作台旋轉精度
0.001 mm
工作台轉速
0~300 rpm
旋轉台最大荷重
500 kg
夾具(直徑)
12""
盤徑
12""
修砂輪尺寸
Ø155 mm
最小進給
1μm sec